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Black silicon carbide 60# 80# 120# for glass blasting

Carbure de silicium noir 60# 80# 120# pour le sablage du verre
Le carbure de silicium noir (SiC) en grains 60#, 80# et 120# est un abrasif professionnel spécialement développé pour les applications de sablage du verre, idéal pour le traitement de surface de divers produits en verre.

$1,320.00 /MT

Carbure de silicium noir 60# 80# 120# pour le sablage du verre

Le carbure de silicium noir (SiC) en grains 60#, 80# et 120# est un abrasif professionnel spécialement développé pour les applications de sablage du verre, idéal pour le traitement de surface de divers produits en verre.
Grâce à sa dureté élevée, ses particules acérées et son excellent auto-affûtage, ce carbure de silicium noir offre des performances de sablage optimales. Le grain 60 est idéal pour le dégrossissage du verre, l’élimination des taches tenaces et le façonnage des bords ; le grain 80 pour un sablage moyen permettant d’obtenir une surface mate uniforme ; et le grain 120 pour un sablage fin, créant une finition lisse et délicate sans endommager le verre.
Ce produit se caractérise par une faible teneur en impuretés, l’absence de coloration du verre et une excellente fluidité, garantissant un sablage homogène. Non toxique et résistant à l’usure, il est largement utilisé dans la décoration du verre, le vitrage automobile, le verre architectural et la transformation de la verrerie. Nous proposons des produits de haute qualité, à granulométrie stable et à prix compétitifs, et acceptons les échantillons en petites quantités.
PROPRIÉTÉS PHYSIQUES
Poids spécifique 3,95 grammes/ cm³
Dureté de Mohs 9.15
température de service maximale 1900℃
Point de fusion  2250℃

Utilisé pour le sablage, le meulage, le traitement de la céramique, le décapage de la rouille, le traitement de surface, le revêtement de sol, les couches résistantes à l’abrasion, etc.

ANALYSE CHIMIQUE TYPIQUE [%]

SiC Fe2O3 FC F.Si SiO2 LOI
≥98,5 ≤0,10 ≤0,20 ≤0,20 ≤0,50 < 0,05

DISTRIBUTION GRANULOMÉTRIQUE DES PARTICULES

F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000 µm ≥70% -1700 µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700 µm ≥70% -1400 µm ≤3%
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20% +1700 µm ≥45% +1700+1400 µm ≥70% -1180 µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20% +1400 µm ≥45% +1400+1180 µm ≥70% -1000 µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400 µm ≤20% +1180 µm ≥45% +1180+1000 µm ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850 µm ≥70% -710 µm ≤3%
F22 +1400 µm 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710 µm ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25% +710 µm ≥45% +710+600 µm ≥65% -500 µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500 µm ≥65% -425 µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425 µm ≥65% -355 µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425 µm ≤30% +355 µm ≥40% 355+300 µm ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250 µm ≥65% -212 µm ≤3%
F60 +425 µm 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212 µm ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212 µm ≥40% +212+180 µm ≥65% -150 µm ≤3%
  F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25% +180 µm ≥40% +180+150 µm ≥65% -125 µm ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125 µm ≥65% -106 µm ≤3%
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20% +125 µm ≥40% +125+106 µm ≥65% -75 µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125 µm ≤20% ≥40% ≥40% +106+90 µm ≥65% -63 µm ≤3%
F150 +150 µm 0 +106 µm ≤15% +75 µm ≥40% +75+63 µm ≥65% -45 µm ≤3%
F180 +125 µm 0 +90 µm ≤15% +75 µm * +75+63 µm ≥40% -53 µm *
F220 +106 µm 0 +75 µm ≤15% +63 µm * +63+53um ≥40% -45 µm *

Principalement des applications

-Abrasifs agglomérés et abrasifs enduits

Sablage, traitement de surface, décapage de la rouille

– Abrasifs humides et secs, meulage et polissage, etc.

-Stratifiés pour sols et murs, résistants à l’usure

Produits céramiques : céramiques et carreaux, plaques filtrantes en céramique, membranes en céramique, etc.

-Peinture au téflon, etc.

– Matériau isolant thermique

– Meules, meules boisseaux, pierres à aiguiser, tampons de polissage, etc.

-Utilisé pour les creusets, les pièces pour la cuisson au four, les joints mécaniques et les matériaux de pièces pour la production de semi-conducteurs.

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